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Microscopic mechanism for mechanical polishing of diamond (110) surfaces

机译:金刚石(110)表面机械抛光的微观机理

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摘要

Mechanically induced degradation of diamond, as occurs during polishing, isstudied using total--energy pseudopotential calculations. The strong asymmetryin the rate of polishing between different directions on the diamond (110)surface is explained in terms of an atomistic mechanism for nano--grooveformation. The post--polishing surface morphology and the nature of thepolishing residue predicted by this mechanism are consistent with experimentalevidence.
机译:使用总能量假电位计算来研究在抛光过程中发生的机械诱导的金刚石降解。金刚石(110)表面不同方向之间的抛光速率的强不对称性是根据纳米晶粒形成的原子机理解释的。该机理预测的抛光后表面形态和抛光残留物的性质与实验证据相符。

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